软光刻：PDMS 薄膜与 PDMS 胶用于印章、微结构复制与离型膜 | 微思创 WESTRU

场景

软光刻（soft lithography）用弹性印章复制微结构：微通道、微透镜阵列、表面图案化。PDMS 是这个工艺的标准材料——全透明便于对位，回弹性好易脱模。

可选材料方向（需结合实际确认）

以下为常见材料方向，具体型号、硬度、厚度与工艺需结合您的实际场景、基材与性能要求确认；欢迎提供需求，由我们给出针对性选型建议。实际选型以样品验证为准。

• PDMS 液态胶：浇注到母模上固化，复制微结构，文献已验证用于微流控胶膜转印；
• PDMS 薄膜：作柔性印章或中间转印层；
• 表面粘性膜：作离型 / 拾取辅助层，低粘易剥离。

工艺要点

• 倒模前可对母模做脱模处理，降低粘模风险；
• 全透明材料便于固化过程与对位观察；
• 脱模后可二次用薄膜贴合，实现复杂结构的组合复制。

本司 PDMS 材料已在多篇公开发表文献中被明确署名，详见客户成果。